光子商務價值
万博Ansys Lumerical的全方位光子模擬與分析工具套組提供元件層級與系統層級的模擬,以最佳化效能,將實體原型製作成本降至最低,同時縮短上市時間。強化的設計流程使設計人員能夠使用經過校準的緊密型模型，來實現技術領先的晶圓代工程序。
万博Ansys光子学
高階功能
万博Ansys Lumerical是一款完整的光子模擬軟體解決方案，能夠設計光子元件，電路和系統。裝置與系統層級工具可完美搭配運作，使設計人員能夠建構互動光學、電氣與熱效應模型。產品之間的靈活、可相互操作性能實現各種工作流程，將裝置的多重物理量和光子電路模擬與第三方設計自動化及生產力工具結合在一起。用於建構和使用精簡模型的 Python 型自動化和工作流程，支援領先業界的晶圓代工程序。
设备级的工具
使用多物理风格的模拟功能和工作流程来模拟物理层面的光学、电气和热效应。
系统级工具
模拟和优化光子集成电路的性能，并生成紧凑的模型库。
光子模擬
万博Ansys Lumerical 2022 R2版本引入了一系列強大的新功能,以擴充其整個產品系列的可用性,準確度,性能和功能。
- 光學求解器內核和高性能pc性能的發展
- 新的工作流程可在Lumerical光學求解器中對各種次波長結構進行模擬,接著在Zemax档案中進行巨觀結構設計的最佳化,最後透過使用Speos模擬人類的視覺成像
- 改進了具有多量子井的電吸收調變器和领着以及單光子崩潰光偵測器的模擬工作流程
- 透過使用我們製程相容的客製化元件設計流程和epda流程中的新功能，可以簡化光子元件與電路的設計
- 由CML编译器生成更豐富的互连和Phoonic Verilog-A模型。
- 建立光子積體電路中，量子行為模型的新互联求解器
如需詳細資訊，請參閱我們的版本說明。
網路研討會
光子学產品
FDTD是建立奈米光電裝置，製程與材料模型的黃金標準。
- 多係數模型建立準確的材料模型
- 模擬非線性及空間變化的各向異性材質
- 利用程式碼、進階位置處理和最佳化例行工作
模式提供您所需的一切，讓彎曲波導和耦合器設計發揮最大效益。
- 進階的保真形網格，可提供高模擬準確度
- 大型平面彎曲波導的變化性FDTD傳播(varFDTD求解器)
- 大型傳播長度的特徵模式分析(eme求解器)
- 有限差異特徵模式分析(fde求解器)
收费為設計師提供正確的工具，可在半導體裝置中進行全方位電荷傳輸模擬。
- 有限元素泊松/漂移擴散求解器
- 穩定狀態，小型訊號ac和暫態模擬
- 等溫、非等溫和電熱模擬
- 全方位半導體材料模型
- 自動化有限元素網格產生
热基於有限元素方法，為設計人員提供完整的熱模型功能。
- 穩態和暫態模擬
- 完整的散熱材料模型
- 研究傳導、對流和輻射效應
- 電傳導產生的焦耳加熱
- 根據匯入熱曲線自動將網格精細化
DGTD使用有限元素Maxwell的求解器，處理最具挑戰性的奈米光電模擬類別。
- 物體保型有限元素網格，無階梯
- 以更高網格位階多項式來準確控制
- 遠場和光柵投影
- 高斯向量光束
FEEM透過有限元素Maxwell求解器，可提供優異的準確度和性能擴充。
- 彎曲波導幾何的精確結果
- 可使用高網格位階多項式進行擴充的優異效能
- 為主動元件建模的隨空間變化指數擾動
堆叠是快速分析薄膜多層堆疊的理想解決方案。
- 適用於薄膜應用的原型設計
- 平面波和偶極照射功能
- 擷取干擾和微共振腔效應
- 將雙向散射分布函數(BSDF)和繞射光柵在內的表面模型匯出至Ans万博ys Speos以進行人類感知分析
Lumerical RCWA是以嚴謹耦合波分析方法為基礎,透過提供週期性多層結構的光散射快速模擬,來補足Lumerical FDTD和堆栈。
- 平面波照明
- 非常適合用來製作光子晶體和繞射光柵的原型
- 評估結構中每個光柵順序的功率和相位
- 評估傳輸和反射之入射功率的分率
- 擷取多層結構內外電場和磁場的分佈
實現經證實，自動化且跨模擬器的光子精簡模型庫(cml)產生。
- CML支援多個edpa工作流程
- 來自單一資料來源的IP保護INTERCONNECT和Verilog-A模型
- 用於頻率和時域模擬的高品質精簡模型
- 產生統計式程式庫
搭配業界領先的eda模擬器使用時，可建立多模式，多通道且雙向的光子電路模型。
- 推動設計並執行電子光子整合系統
- 雙向光學埠
- 透過產生CML编译器模型的可擴充光學聲軌和模式
- 支援線路圖導向配置
万博Ansys Lumerical的光子積體電路模擬器可驗證多模式，雙向和多通道PIC。
- 階層式原理圖編輯器
- 電路求解器中的頻率域分析
- 暫態採樣和區塊模式模擬器
- 支援多模式和多通道
- 用於建立雷射和系統模型的PIC元素庫
- 模擬自熱對半導體雷射效能的影響
- 與Virtuoso，西门子EDA和KLayout整合
功能
万博Ansys Lumerical的光子模擬和設計能力,讓工程師能夠建立奈米光電裝置,電路,製程和材料的模型。
- 電路層級模擬
- 奈米光電元件層級模擬
- 具備後製處理功能的3d cad環境
- PDK工作流程
- 支援自動化和指令碼
- 雷射工作流程
- 使用lumopt的光子反向設計
- 產生精簡模型
我們的解決方案能緊密合作，讓您能夠模擬光子中最具挑戰性的問題。工具之間的靈活、可交互運作性能實現各種工作流程，將裝置的多重物理量和系統層級光子電路模擬與第三方設計自動化及生產力工具結合在一起。
FDTD方法的執行程序經過精密調整，可在各種應用領域中提供可靠，強大且可擴充的求解器效能。整合式設計環境提供指令碼功能、高級後製處理和最佳化例行工作，種種功能，都讓您可以專注於自己的設計。
具備可參數化模擬物件的3d cad環境允許快速的模型迭代。建置2d和3d模型，定義自訂表面和體積，並從標準cad和IC配置格式匯入幾何。
万博Ansys的光子積體電路(PIC)模擬工具,能與領先業界的電子設計自動化(EDA)模擬器協同合作,有助於電子光子整合系統的設計和執行。Virtuoso®和Siemens EDA都提供電子光子設計自動化(EPDA)工作流程。
跨多個Lumerical工具建置，執行並控制模擬，或與第三方應用程式結合。利用Lumerical指令碼語言,Matlab或Python,以使用數字分析,視覺化,最佳化等功能。
Lumerical提供了一組整合工具，可針對許多常見的邊射型雷射拓撲建立模型。混合建模方法結合了物理模擬的準確度和光子積體電路模擬的效能與規模。設計從SOA,獨立式FP和足协雷射到複雜外部共振腔DBR,環狀或取樣光柵游标雷射等所有項目,並建立其模型。
自動探索最佳幾何，以獲得理想的目標效能，同時探索非直覺幾何，以便將效能最佳化、將區域最小化，並提高可製造性。使用以外型為基礎的作法或拓撲最佳化，並模擬效能，以找到最佳解決方案。
啟用程序的自訂設計流程,讓設計人員能夠使用符合晶圓代工技術規範的自訂被動和主動元件,快速增加現此后有倾向。
與万博Ansys Speos整合可連接奈米光電模擬與巨觀的環境模擬之間的斷層，讓設計人員能夠考慮照明、視角和人類感知的影響。
提供顯示器與影像感應器應用領域的工作流程示範。
OptiSLang可以在複雜的工作流程中驅動Lumerical產品,使設計人員能夠從其最佳化設計和敏感度分析功能中受益。
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